KMM-200M正置高分辨率高精度金相顯微鏡

■采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好。

■提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便。

■顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學設計，結構勻稱，實現鏡體擴展積木化。

■工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性。

■廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域。

KMM-200正置高分辨率高精度金相顯微鏡技術規格

光學系統	有限遠色差校正光學系統
觀察筒	鉸鏈式雙目，30°傾斜，360°旋轉，瞳距調節范圍：54-75mm，雙邊±5屈光度可調；鉸鏈式三目，固定式分光比，雙目:三目=80%:20%
目鏡	PL10X高眼點平場目鏡，線視場:18mm
物鏡	長工作距平場消色差金相物鏡5X、10X、20X、50X、100X
轉換器	內定位四孔轉換器內定位五孔轉換器
調焦機構	粗微調同軸，帶機械上限位和松緊調節裝置,粗調行程28mm，微調精度0.002mm
載物臺	雙層機械移動平臺,附設180X145mm平板平臺,移動范圍：76mmX50mm
照明系統	反射式柯拉照明，自適應寬電壓90V-24V，6V/30W鹵素燈，光強連續可調,帶可變孔徑光闌與視場光闌,視場光闌中心可調
攝影裝置	攝影接筒（帶PK卡口），3.2X攝影目鏡
攝像裝置	0.35X/0.5X/1.0X,C型攝像接筒
其他可選功能	簡易偏光 6V30W透射照明系統